Dans le cadre de la mise en place de notre nouvelle ligne pilote, nous sommes à la recherche d’un.e chargé.e de R&D épitaxie dont la mission consistera à aider à la mise en place des réacteurs de croissance plasma et au développement de nouveaux procédés d’épitaxie.
Vous travaillerez principalement sur les réacteurs de croissance plasma et sur la caractérisation des couches de diamant.
Vous serez amené à :
Composants
Les techniques suivantes pourront être utilisées :
Niveau Master (ou équivalent) ou Doctorat en Science des Matériaux, Physique du solide ou des Procédés ou équivalent. Avec ou sans expérience, l’ensemble des candidatures seront étudiées.
Une connaissance de la MPCVD et des techniques de vide ainsi que de solide connaissances en croissance cristalline est requise. Une connaissance des techniques de caractérisation mentionnées ci-avant et/ou une expérience en épitaxie de couches de diamant sont un plus.
DIAMFAB
25 avenue des Martyrs
38042 Grenoble Cedex 9
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